相信经常关注科技资讯的网友都知道，我国在半导体领域上的技术一直落后于一些西方国家，导致我们经常受到国外的科技制约。比如华为的芯片短缺问题，就是国外对中国科技打压产生的结果。但面对国外的限制，我们并非毫无还手之力，据悉，上海微电子新一代的深紫外光刻机已经取得了重大突破，
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那么深紫外光刻机有何过人之处呢？这就不得不说光刻机的分类，光刻机分为深紫外光刻机（DUV）和极紫外光刻机（EUV），他们的最大区别是一个生产7nm以上的芯片，另一个生产7nm以下的芯片，可以说7nm芯片工艺是这两种光刻机的分水岭。也就是说，上海微电子最新的28nm深紫外光刻机完全可以用于生产7nm芯片，能够打破国外对我国7nm以上芯片制造工艺的垄断。
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虽然使用EUV光刻机生产7nm芯片效率更高，但在当下EUV光刻机产量短缺的情况下，使用DUV光刻机生产7nm芯片也是一种解决问题的方法。当然这种方法并非我们首创，据说台积电就曾使用过这种办法，提高了7nm芯片的产能。所以我国在芯片制造领域上已经成功挤进了世界先进行列，而且华为的麒麟980与810等芯片还能摆脱台积电的限制，让国外的科技打压成为历史。
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那么国外光刻机巨头对中国光刻机的崛起会有哪些反应呢？事实他们与我们无声的较量已经开始了，国外也知道一旦中国的技术突破了，他们在中国的优势将不复存在。所以他们一定会打起价格战，快速抢占国内的市场，企图把中国的技术扼制在摇篮中。一直以来，荷兰ASML对中国采购光刻机的计划常常加以阻挠，但自从上海微电子28nm光刻机技术突破的消息传出后，ASML与中国的关系就变得很微妙，之前拖延的光刻机也快速交付了。
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自从中国加大对半导体领域的投资后，中国的芯片领域就开始了飞速发展，无论是光刻机还是在芯片的制造上，都取得了重大突破。我国在半导体领域上不但要做到自给自足，还要以此摆脱我们对国外的技术依赖。中国作为世界上最大的半导体产品消费市场，每年的消费量更是占据了世界的30%以上，其产业规模已经超过了3000亿美元。而上海微电子的崛起，也打破了半导体产业以往的平衡，如果国外还想着靠技术“取巧”赚中国的钱，未来注定行不通。
