在光刻机领域内，ASML的技术最为先进，其研发制造的EUV光刻机和DUV光刻机占领了中高端市场。
尤其是EUV光刻机，目前仅有ASML能够研发制造，关键是，EUV光刻机还是生产制造7nm以下芯片的必要设备。
早些时候，ASML推出了升级改良版的EUV光刻机，生产效率提升了15%，每小时曝光12寸晶圆约170片，该光刻机已经优先出货给了英特尔。
同时，ASML还在研发全新一代EUV光刻机，其被称为NA EUV光刻机，根据ASML之前发布的消息可知，该光刻机预计在2025年左右交付。
如今，ASML方面传来消息称，全新一代NA EUV光刻机将会在2023年交付厂商测试、研发，并将于2024年和2025年大量交付。
另外，ASML方面还透露，全新一代EUV光刻机的NA值从0.33提升到0.55，而更高的NA值将带来更高的光刻精度，甚至能够将芯片制程缩至1nm以下。
而且，NA值的提升，还能够提高生产效率和良品率，预计每小时曝光12寸晶圆的数量将会超过200片，甚至更高。
就在三星和英特尔争相想要优先获得全新一代EUV光刻机之际，台积电默不作声，并没有就更为先进的NA EUV光刻机表态，这对于ASML而言，犹如当头一棒。
要知道，台积电是全球最大的晶圆代工厂，也是全球芯片制造技术最先进的厂商，其拿下了全球53%的芯片订单。
而且，台积电是ASML最大的客户，仅EUV光刻机，台积电就安装超过50台，占ASML的EUV光刻机总出货量的一半左右，可以说是给ASML贡献了大量的营收。
毕竟，ASML的营收主要就来自EUV光刻机，其单机售价就是超过了1亿美元，但台积电对全新一代EUV光刻机的沉默，可能会给ASML的营收带来影响。
ASML表示将会在2023年将全新一代EUV光刻机交付给厂商测试、研发，而台积电默不作声，也可能会影响全新一代EUV光刻机的进度。
原因是光刻机从测试到量产，这需要芯片制造厂商反馈的数据进行修正，而台积电是芯片制造技术最先进的厂商，也是先进制程芯片产能最大的厂商。
而台积电和ASML在数据方面一直都存在交流，从而帮助ASML优化升级光刻机。但在全新一代EUV光刻机上，台积电默不作声，自然会影响全新一代EUV光刻机。
毕竟，台积电技术先进、产能大，其反馈给台积电的数据更为精确一些，自然能够让ASML更好地进行优化和升级，英特尔和三星自然是差一点了。
台积电没有像三星、英特尔那样积极表态，可能是将重点放在封装技术和新材料等方面，毕竟，日本厂商已经表示，可以在没有EUV光刻机的情况下将芯片制造缩小至5nm。
也就是说，一旦台积电等厂商降低对ASML光刻机的需求，自然会影响ASML的技术进步。返回搜狐，查看更多
