虽然说现在行业对于芯片制成工艺都在追求完美极限7nm、5nm、3nm。因为集成度越高，所能实现的功能就越多，也就越先进。但是，就目前业内能做到极限纳米级芯片制造企业少之又少。且芯片集成度会受摩尔定律的制约。
目前，我国芯片已经可以做到28nm。这意味着国产光刻机技术迎来了突破性进展。意味着能够实现军用装备芯片、AI芯片、存储芯片的生产制造。
从国产90nm到28nm，我们经历了质的飞越。可以说已经很先进了，90nm光刻机应该说是90nm制成工艺。要知道90nm、45nm、28nm的手机芯片可以完全覆盖智能手机范围，90nm完全可以实现基本的用途。
90nm只是芯片上器件的间距，如果间距越小，可以在同一块芯片上集成更多的晶体管，实现更多的功能。
目前国内最先进的光刻机就是上海微电子产的使用ArF光源的90nm光刻机，其型号为SSX600系列，该机型为IC前道光刻机，可应用于90nm关键层和非关键层的前道IC制造需求，同时向下兼容也可用于110nm、280nm这样制程的光刻工艺。
目前上海微电子在后道光刻机这个领域已经占了国内80%的市场份额。上海微电子的光刻机可以用来生产各种工艺要求不高的芯片上。
总之：90nm光刻机虽然是低端光刻机，但是在半导体生产领域一样有着庞大的需求。事实上高端光刻机的应用领域基本集中在电脑芯片、手机芯片、5G芯片，这些对工艺制程要求较高的领域。
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正规的宽带运营商提供的宽带是不存在虚标的情况。造成这种误解的原因是： 1、运营商指的多少M的宽带和我们理解的多少MB并不是同一个东西。 2、测速的过程中方式方法出现了问题。 3、传输介质（光纤）和传输过程存在损耗。 宽带运营商给我们办理带宽的过程，...
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