8月5日，中国科学院半导体研究所发布厚膜掺杂等离子体增强淀积设备、高质量离子束溅射镀膜系统采购项目公开招标公告，预算金额800万元。 项目编号：OITC-G200331121 项目名称：中国科学院半导体研究所厚膜掺杂等离子体增强淀积设备、高质量离子束溅射镀膜系统采购项目 预算金额：800.0 万元(人民币) 最高限价(如有)：800.0 万元(人民币) 采购需求：
发布日期：2020-08-12 11:55:38 作者：中新网 浏览次数：7048月5日，中国科学院半导体研究所发布厚膜掺杂等离子体增强淀积设备、高质量离子束溅射镀膜系统采购项目公开招标公告，预算金额80
