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ASML 20年前就开始研制EUV光刻机:日本佳能、尼康嫌太复杂

放大字体  缩小字体 发布日期:2021-03-25 21:09:29    来源:快科技    作者:快科技    浏览次数:77
导读

ASML 20年前就开始研制EUV光刻机:日本佳能、尼康嫌太复杂

ASML已经成为了全球第一大光刻机厂商,而且最顶尖的EUV光刻机更是独家垄断。

日前与媒体交流时,ASML技术开发副总裁Tony Yen确认了此前外界的猜测,他表示EUV光刻机目前有三大客户,分别是台积电、三星和Intel。

至于同样制造光刻机的日本佳能、尼康为何在EUV上掉队,Yen指出,我们从2000年左右开发EUV,并决定大批量生产这种光刻机。

日本人没有这么做,因为他们觉得系统太复杂。实际上,我们当时也不是100%确信EUV光刻机会成功。

当然,Yen提到,EUV光刻机的成功还有蔡司、Cymer(已被ASML收购)等企业参与,其中蔡司独家向ASML出售半导体相关的曝光产品。

据官方披露的数据,去年全球光刻机总销售量为413台,其中ASML销售258台占比62%,佳能销售122台占比30%,尼康销售33台占比8%。从光刻机类型来看,尼康出货的主要是ArF immersion、ArF dry,佳能主要是KrF、i-line(份额69%)。

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转载与快科技

#阿斯麦#光刻机#极紫外光刻

责任编辑:万南

 
(文/快科技)
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